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Date:   View:   Day Week Month   Resource: Suss MA-6 double side Mask Aligner Suss RC-8 spin coater Headway spin coater Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher EDWARDS-306 e-beam evaporator MRC 8620 RF Sputtering System Silicon wet etch station (Double book allowed) Wet bench for acid processes (Double book allowed) Photoresist deposition bench (Double book allowed) Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed) KLA P16 Stylus Profiler Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer DISCO 3350 dicing saw Oerlikon 790 series PE CVD system Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor Tousimis Critical Point Dryer Heidelberg Instruments DWL-66fs Laser Writer Electrochemical Bench, 301 room Penta DC/RF Sputtering System Olympus LEXT 4000 confocal microscope All    [* = click for details]    Now:23:57

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